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台积电摊牌了,我能绕过顶级EUV光刻机,不用看ASML脸色_工艺_nm_High

添加时间:2026-05-06 17:25:05 点击量:273

“内容为王”这句话在哪个时代都不会过时。随着消费升级,日益庞大的中国高端群体对高品质的生活方式与旅行体验的需求为高端出境旅游市场带来巨大市场机遇。现今的旅游产品也更向个性化、定制化、品质化靠拢,对内容创新提出更高的要求。内地的旅游内容市场仍有5-10倍的增长空间。最近36氪接触了一家做移动端旅游社区电商的团队——河马旅居指南。

河马旅居定位中等收入人群18-34岁的年轻群体,想通过碎片化的PGC或UGC内容培养用户粘性,由内容社区模式切入出境游市场。传统的旅游内容多是以长图文的游记形式呈现,河马旅居并不刻意强调旅游路线或整个游历过程的感受,在内容呈现上更加碎片化、个性化、移动化以及品质化,以小众或特色地点作为维度输出内容,建立内容社区,类似于旅游界的“小红书”或“什么值得买”。

河马旅居在部分海外旅游城市有一个4到5人的自媒体小团队定期生产PGC内容,每月更新一次内容,以优质的内容导流。目前河马的获客成本低至2-3元/人。

优质的内容利于培养高粘性度的用户,当累计到一定数量的优质内容生产者,达到一定的用户规模时,将由PGC内容带动UGC内容的自发产出,进而开始搭建旅游内容社区,最后完成向旅游社区电商的转型,形成交易闭环。

目前河马旅居的流量较为分散,微信公众号累计粉丝3万,MONO 5万,豆瓣 1万,C端获客主要来自微博、豆瓣,上周刚上线微信小程序。后期需考虑转化用户集中流量,现阶段团队正尝试跟移动WiFi租赁和签证业务团队资源置换,互相增加入口。

商业模式上,河马旅居打算分两步走,第一阶段,先帮助用户解决去哪里玩的问题。河马打算与当地的旅游局或航空公司合作,帮助他们做中国市场的整体营销,宣传当地旅游资源。第二阶段,解决用户怎么玩的问题。平台可通过用户的行为数据分析社区调性从而推荐相应的特色化旅游产品,例如在京都的寺院坐禅、学习茶道、参观日本酒的蒸馏厂等等。

此外,河马旅居也在尝试开拓知识付费的营收渠道。从体验、艺术、咖啡、酒吧、餐厅、酒店等六个维度切入,做成各旅游城市的PDF版官方性质PGC攻略。3月份售出800多本,每本单价15元。

河马旅居创始人余晓盼表示,河马旅居的核心竞争力还是个性化的内容表达。“传统旅游社区把内容做的太死气沉沉了。人美、景美但流水账似的内容很无趣。好的内容本身就是门槛。原创的有趣的才有生命力。”

内容+电商并不是一个新概念,如今传统OTA、头部电商平台以及媒体型电商都在加码内容,但要持续产出有价值的内容并非易事,需要足够规模的内容生产团队长时间的内容积累,而具有极强传播力的爆款内容更是可遇而不可求,营造内容社区所花费的精力也许正是其门槛所在。

河马旅居目前的管理团队为4人,内容产出团队20人。创始人余晓盼任河马主编兼运营,曾任职于私募、资管、律师事务所,为《美食侦探系列》旅行畅销书作者。团队目前正在寻求天使轮融资。


对于ASML这家全球最顶尖的光刻机厂商而言,推动其业绩不断增长的引擎是什么?

当然是它自己不断的推出新产品,比原来的产品更有优势,进而推动全球的芯片工艺不断的前进,让新产品不可或缺。

那么ASML的光刻机,就不愁卖,自己的业绩就有保障了。

过去的这许多年,ASML就是这么干的。

从KrF进入到ArF,再进入到ArFi,再进入到EUV光刻机,让全球的芯片厂,比如台积电、三星、英特尔们,买了自己的KrF光刻机后,又要买ArF,再买ArFi,再买EUV光刻机。

每进步一次,光刻机就贵好几倍,这样ASML的收入就保住了,利润也保住了,并且是不断提升了。

而进入EUV光刻机后,技术进步没有那么快了,但ASML也是故伎重演,先是推出第一代NA=0.33的普通EUV光刻机,再推出NA=0.55的 High EUV光刻机。

从价格上来看,第一代NA=0.33的EUV光刻机,只有1亿多美元一台,但是这种NA=0.55的High EUV光刻机,价格高达4亿美元去了……

ASML的算盘打的很好,7-3nm工艺,大家就用一用NA=0.33的普通EUV光刻机,进入2nm后,大家还是用这种NA=0.55的 High EUV光刻机,数值孔径更大,分辨率更高,制造的效率更高。

在ASML看来,就算新的EUV光刻机价格贵一点,但考虑到先进工艺下的效率提升,以及可支持的工艺更先进,对于晶圆厂来讲,换成新的光刻机后,总体肯定是划算的。

三星、intel明显是吃一套的,所以爽快的找ASML下单了NA=0.55的 High EUV光刻机。

但是ASML最想要的大客户台积电,却迟迟没有动静,一台都没有找自己下单,一直用之前买的旧的EUV光刻机折腾出了3nm,又要量产2nm。

更夸张的事情来了,近日,台积电抛出了接下来4年的工艺***,台积电公布了自己到2029年的所有工艺节点推进***。

这些芯片会有N2、N2P、N2U、A14、A13、A12这些,从命名也可以看出,最高工艺已经达到了1.2nm,但是台积电称,这些芯片的制造,均不需要NA=0.55的 High-NA EUV光刻机。

这对于ASML而言,将会是沉重的一击,ASML可是眼巴巴的盯着台积电,希望他能下单一点High-NA EUV,现在到2029年前,台积电不可能下单了,这让ASML怎么办?

台积电为何这么有底气,一方面是台积电这些年一直在研究EUV技术,早就掌握了一套在现有的EUV技术之下,如何提高芯片工艺的办法,所以有底气。

另外则是通过“光刻+刻蚀+沉积”的协同微缩,将光刻的难度转移到刻蚀、沉积等环节,所以不需要这种昂贵的设备。

台积电的账算的很清楚,一台4亿美元,自己现有的EUV光刻机100多台,如果全换成High-NA EUV,需要400多亿美元,这些钱干嘛要送给ASML,自己留着来研发,来扩产它不香么?全用来买设备了,那不是傻么?

这下就真的留下ASML在风中凌乱了,大客户不下单,ASML的业绩可怎么办?返回搜狐,查看更多

台积电摊牌了,我能绕过顶级EUV光刻机,不用看ASML脸色_工艺_nm_High

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